令和6年12月18日、Rapidus社は千歳市で建設中の最先端半導体の開発および生産を行う「IIM-1」に、オランダASML社製のEUV露光装置を搬入し、設置作業を開始したことを発表しました。
同日、これを記念して新千歳空港ポルトムホールにて記念式典が執り行われました。

最先端半導体の量産に対応したEUV露光装置の導入は、日本初となります。また、IIM-1には、これからEUV露光装置を皮切りに、2nm世代半導体を実現するための多くの半導体製造装置および搬送システムが導入されることになります。

詳細については、Rapidus社のニュースリリース（外部サイトに移行します）をご確認ください。